更新時間:2023-07-23
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廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
生產(chǎn)地址:德國
品牌 | 其他品牌 | 加工定制 | 否 |
---|---|---|---|
自動化程度 | 高 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 蝕刻 |
組成部分 | 多部分 | 重量 | 500kg |
質(zhì)保 | 3年 |
標(biāo)題:供應(yīng)德國Heidelberg Instruments刻蝕機(jī) DWL 2000 GS系列
Heidelberg Instruments刻蝕機(jī)介紹:
德國Heidelberg 刻蝕機(jī)DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 激光光刻系統(tǒng)是快速靈活的高分辨率圖案生成器。它們針對工業(yè)級灰度光刻進(jìn)行了優(yōu)化,專為集成電路、MEMS、微光學(xué)和微流體設(shè)備、傳感器、全息圖以及**特征的掩模和晶圓的高通量圖案化而設(shè)計(jì)。專業(yè)灰度光刻模式可以在大面積厚光刻膠中形成復(fù)雜的 2.5D 結(jié)構(gòu)圖案。DWL 2000 GS / DWL 4000 GS 系統(tǒng)具有 500 nm 的最小特征尺寸、高達(dá) 400 x 400 mm 2的寫入?yún)^(qū)域和可選的自動加載系統(tǒng),特別適用于用于電信、照明的晶圓級微光學(xué)器件和工業(yè)顯示器制造,以及生命科學(xué)中的設(shè)備制造。
Heidelberg Instruments刻蝕機(jī)功能參數(shù)特點(diǎn):
2 曝光質(zhì)量
2 CD 均勻性 60 nm;邊緣粗糙度 40 納米;對準(zhǔn)精度 60 nm;第二層對準(zhǔn) 250 nm;自動對焦補(bǔ)償 80 µm
2 灰度光刻
2 1000級灰度;專用 GenISys BEAMER 軟件,用于優(yōu)化復(fù)雜幾何形狀的曝光
2 溫控流動箱
2 溫度穩(wěn)定性 ± 0.1°,ISO 4 環(huán)境
2 曝*速度
2 灰度模式下 200 x 200 mm 2 的面積<60 分鐘
2 基板尺寸大
2 高達(dá) 20 / 40 厘米
Heidelberg Instruments刻蝕機(jī)應(yīng)用:
2 微光學(xué)
2 材料科學(xué)
2 微流體等
Heidelberg Instruments刻蝕機(jī)主要型號:
2 DWL 2000 GS 系列
2 DWL 4000 GS 系列
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